catalytic chemical vapor deposition
基本解释
- [機械工程]催化化學氣相沉積
英汉例句
- Polysilicon thin films are deposited by catalytic chemical vapor deposition method. The substrate temperature is 300 ℃ and catalytic hot wire is tungsten filament.
以金屬鎢爲催化熱絲,採用熱絲催化化學氣相沉積,在300℃的玻璃襯底上沉積多晶矽薄膜。
雙語例句
词组短语
- catalytic chemical vapor deposition method 催化化學蒸汽沉積法
- Floating Catalytic Chemical Vapor Deposition 浮遊催化化學氣相沉積
- catalytic chemical vapor deposition technique 催化化學氣相沉積法
- catalytic chemical vapor deposition cat -cvd 催化化學氣相沉積
- Chemical Vapor catalytic Deposition 化學氣相催化裂解法
短語
专业释义
- 催化化學氣相沉積